VENN桃太郎半导体流体阀高洁净度

产品简介
VENN桃太郎半导体流体阀高洁净度
VENN 桃太郎半导体 SL-38 流体阀，是专为半导体制造高洁净需求设计的精密控制设备，凭借严苛的洁净工艺与材质选择，可满足半导体晶圆清洗、光刻胶涂覆、高纯气体输送等核心环节的流体控制需求，为半导体生产的洁净环境提供可靠保障。
在高洁净度实现上，该阀门从材质到工艺全程对标半导体行业标准：阀体采用 316L 不锈钢材质，经电解抛光处理，表面粗糙度 Ra≤0.

产品型号：SL-38

更新时间：2025-09-28

厂商性质：经销商

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品牌	VENN/阀天桃太郎	应用领域	环保,化工,能源,钢铁/金属,综合

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VENN 桃太郎半导体 SL-38 流体阀，是专为半导体制造高洁净需求设计的精密控制设备，凭借严苛的洁净工艺与材质选择，可满足半导体晶圆清洗、光刻胶涂覆、高纯气体输送等核心环节的流体控制需求，为半导体生产的洁净环境提供可靠保障。

在高洁净度实现上，该阀门从材质到工艺全程对标半导体行业标准：阀体采用 316L 不锈钢材质，经电解抛光处理，表面粗糙度 Ra≤0.2μm，有效减少流体滞留死角，避免杂质吸附；密封件选用全氟醚橡胶（FFKM），具备优异的耐化学腐蚀性与低析出特性，长期接触高纯试剂（如氢氟酸、异丙醇）无微粒脱落，符合 SEMICON F47 洁净标准，可适配 Class 1 级洁净车间使用。同时，阀门内部流道采用流线型设计，无直角拐弯与台阶结构，流体通过时无湍流产生，减少因流道不规则导致的杂质堆积，进一步保障传输介质洁净度。

性能上，SL-38 流体阀兼具精准控制与稳定运行优势：采用先导式启闭结构，响应时间≤0.1 秒，可实现高频次精准通断，适配半导体生产中流体剂量控制需求；调压范围覆盖 0.05-1.0MPa，能稳定适配高纯氮气、氧气等半导体制造常用气体，以及光刻胶、显影液等液体介质传输，且泄漏率≤1×10⁻⁹Pa・m³/s，避免介质交叉污染。此外，阀门采用无油润滑设计，杜绝传统润滑油脂可能带来的微粒污染，后期维护时仅需常规清洁，无需拆解复杂部件，减少洁净车间内的维护污染风险。

应用场景方面，其广泛适用于半导体晶圆清洗设备（如单片清洗机流体控制）、薄膜沉积工艺（CVD 设备高纯气体输送）、光刻工序（光刻胶精准分配）等环节。产品出厂前需经过 100% 氦质谱检漏与洁净度检测，附带详细洁净认证报告，安装时可直接接入半导体自动化管路系统，无需额外洁净处理，为半导体生产的高效、洁净运行提供关键流体控制支撑。

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